快科技2月24日音书，据媒体报说念，ASML首席本事众人Michael Purvis在接纳媒体采访时流露，辩论东说念主员已成效找到将极紫外（EUV）光刻机光源功率从面前的600瓦提高至1000瓦的形态。
这并非实践室里好景不常的演示，而是一套偶而得志客户实质分娩环境严苛要求、可自若发轫的完满系统。
跟着光源功率跃升至千瓦级别，光刻机的产能也将随之罢了跳跃。据ASML测算，当光源功率提高至1000瓦后，2030年每小时晶圆责罚智商可从220片提高至330片，增幅高达50%。
更值得眷注的是，在产能大幅提高的同期，单片晶圆的制形资本基本保握不变。这意味着，芯片制造商在不增多洁净室面积、不特别采购新成立的前提下，幸运彩票仅通过现存成立的性能升级，就能罢了产能的显赫跃升。
不外，这一本事何时偶而信得过落地，现在尚无明确时分表。外界分析以为，ASML将来可能会以升级套件的形态向客户提供光源升级做事，但并非扫数型号的EUV光刻机齐具备升级条目，具体适配领域仍有待进一步流露。
关于ASML而言，1000瓦显豁不是格外。Purvis流露，团队还是在探索将光源功率推向1500瓦以至2000瓦的可能性。
{jz:field.toptypename/}跟着光源功率的握续攀升，EUV光刻机的产能天花板还将被抵制推高，为将来更复杂、更深广的芯片制造需求铺平说念路。
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